北森瓦版 - Northwood Blog (Author : 北森四葉. Since July 10, 2006.)
Intel Confirms That EUV Lithography Will Not Be Used in 10nm Production(WCCF Tech)

数日ほど前に、Intelは10nmプロセスの製造にEUVを使用しないことを明らかにした。これは予想し得たものであったが、一部は眉をしかめたようである。だがシリコンバレーの大多数はIntelが10nmプロセスを製造するのにEUVは必要としないだろうと考えており、14nmプロセスの時も同様の見方で一致していた。

ここ最近のIntelの動きは妙で、14nmプロセスのロードマップが遅れており、さらにムーアの法則も限界に近づきつつある。Intelは現在10nmプロセスの段階に進んでおり、2016年に予定されている。そしてこの10nmプロセスにはEUVは必要としないという。
「我々はEUVを使わずに10nmプロセスを実現できる」
IntelのCEOであるBrian Krzanich氏はCiti Global Technology Conferenceで語った。
再度言うが、これ自体はなんら驚くものではない。ただ、“Broadwell”の遅れの話題の中で出てきた話だったため、眉をしかめる者もいたという話である。


実際のところ何ら驚く話題でもありません。むしろ「Intelが10nmプロセスでEUVを導入する」と言われた方が逆が驚きです(そもそもEUVって何時実現するのだろう?)。
コメント
この記事へのコメント
145284 
光源出力が上がってないからね。
理想と現実は違う。
2014/09/09(Tue) 09:40 | URL | 相場師 #-[ 編集]
145311 
「予想し得たものであったが、一部は眉をしかめた」は
「おおむね予想通りだが、多少は意外な部分もあった」
くらいのニュアンスじゃないかと思う…けど、あまり自信ないわ。
2014/09/11(Thu) 03:38 | URL | LGA774 #3cB5OuE2[ 編集]
145356 
プロセスの遅れというよりは14nmで出す回路設計のトラブルで結果として製品の投入が遅れたんじゃなかった?
CoreMの旧ステがフェードアウトしたのもそれを裏付けてると思うんだが
2014/09/14(Sun) 16:28 | URL | LGA774 #-[ 編集]
145357 
まぁまだまだ夢に近い話だけどでも
EUVなしでまともな歩止まりとスループット出るのかねー
2014/09/14(Sun) 16:33 | URL | LGA774 #-[ 編集]
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