北森瓦版 - Northwood Blog (Author : 北森四葉. Since July 10, 2006.)
Toshiba, Canon team up for 15nm NAND flash, says report(DigiTimes)
東芝・キヤノン、次世代半導体開発で提携-露光微細化、線幅15ナノメートル量産(日刊工業新聞)

東芝は15nm NANDフラッシュメモリ開発においてCanonと提携し、2015年の大量生産を目指す。

東芝の四日市工場において、Canonの先端製造装置を導入し、研究が行われる方針。共同研究が行われるのは“nano-imprint”と呼ばれるリソグラフィ技術である。

現在の東芝のNANDフラッシュは19nmで製造されていますが、今回の提携で2015年に15nmプロセスでの製造を目指すようです。また今夏には16~17nmの生産を始める計画であるようです。
コメント
この記事へのコメント
143081 
書き換え回数も激減しそう
十数ナノ世代ともなるとプロセス縮小はコストアップに繋がってしまうから、価格面でも大きなメリットはなさそう
2014/03/04(Tue) 14:36 | URL | LGA774 #-[ 編集]
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